Rensselaer Polytechnic Institute.;
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:镶嵌金属栅化学机械平面化工艺的反选择性氧化铈浆液
机译:铜镶嵌互连的先进化学机械平面化技术评估
机译:铜镶嵌阻挡层浆料的研究:化学机械平坦化过程中的半导体溶解
机译:浆料化学物质对铜化学机械平面化的影响。
机译:化学机械平面化过程中浆料混合程度和可用性的浆料注入方案
机译:YO纳米片用作铜化学机械平面化的浆料研磨剂