California Institute of Technology.;
机译:硅的ICP-RIE低温干法刻蚀能力:示例性微结构综述
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:通过ICP干蚀刻制造硅微透镜模具
机译:结晶碳化硅的反应离子刻蚀和碳化硅器件的制造。
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:用于微米和纳米级器件的ICp蚀刻硅
机译:碳纳米管尖端纳米级蚀刻和硅(001)表面压痕