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声明
第一章绪论
1.1引言
1.2研究背景和意义
1.3本论文的结构安排
参考文献
第二章基于低温缓冲层技术的InP/GaAs外延生长机理研究
2.1引言
2.2外延生长技术与测试技术简介
2.2.1金属有机化学气相沉积
2.2.2晶体生长质量的测试方法
2.3大失配异质外延基本理论模型
2.4低温InP缓冲层的特殊表面形貌
2.4.1实验结果
2.4.2分析与讨论
2.5双低温缓冲层的力学形变效应
2.5.1实验结果
2.5.2分析与讨论
2.6本章小结
参考文献
第三章InP/GaAs横向异质外延和生长模型研究
3.1引言
3.2 InP/GaAs的ELOG实验方案
3.3特殊表面形貌分析
3.3.1 Ⅴ/Ⅲ和掩膜宽度的影响
3.3.2生长时间的影响
3.4生长动力学的数值模拟
3.4.1气相扩散生长速率
3.4.2表面迁移速率
3.4.3讨论
3.5本章小结
参考文献
第四章 特殊Ⅲ-Ⅴ化合物的第一性原理研究
4.1引言
4.2第一性原理计算
4.3BAs在Ⅲ-Ⅴ族中的特殊性
4.4 半金属化合物:Ⅲ-Bi和TI-Ⅴ
4.5本章小结
参考文献
第五章 GaAs基新合金材料的第一性原理研究
5.1引言
5.2模型与计算方法
5.2.1虚晶近似
5.2.2团簇近似
5.3结构和电学特性
5.4本章小结
参考文献
第六章BGaAs化合物的LP-MOCVD生长实验
6.1引言
6.2硼源的选择
6.3 BGaAs生长方案
6.4 B组分的测量
6.5结果分析
参考文献
第七章总结
致谢
攻读博士学位期间已经发表的学术论文