基于二氧化钛薄膜的人工突触晶体管研究

目录

声明

摘要

1．1引言

1．2人工突触简介

1．2．1突触可塑性和学习规则

1．2．2人工突触的研究进展

1．3电解质栅控晶体管

1．3．1电解质栅控晶体管的结构

1．3．2电解质栅控晶体管的原理

1．4突触晶体管的应用

1．5本论文的研究目的和内容

第2章器件的制备技术与测试分析仪器

2．1引言

2．2器件制备技术

2．2．1磁控溅射沉积技术

2．2．2X射线衍射仪(X-Ray Diffraction)

2．2．3原子力显微镜(Atomic Force Microscope)

2．2．4电学测试系统

第3章薄膜的制备及物理性质表征

3．1引言

3．2样品制备

3．2．1衬底的选择及处理

3．2．2薄膜生长条件

3．3薄膜结构形貌测试

3．3．1样品的XRD测试

3．3．2薄膜的AFM测试

3．4本章小结

第4章器件的制备和性能表征

4．1引言

4．2器件的制备

4．2．1掩模的制备

4．2．2器件薄膜参数

4．3器件性质表征

4．3．1转移特性曲线测试

4．3．2单脉冲测试

4．3．3连续脉冲调控

4．3．4温度对于调控速率的影响

4．3．5栅极电压周期的影响

4．3．6循环测试

4．3．7保持特性

4．4本章小结

第5章总结与展望

5．1总结

5．2展望

参考文献

致谢

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