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摘要
第一章绪论
1.1透明导电氧化物TCO简介
1.2钙钛矿结构锡酸盐简介
1.3TCO的化学掺杂
1.4应力工程调控
1.5论文的选题意义和研究内容
第二章样品的制备方法和表征方法
2.1.1脉冲激光沉积
2.1.2磁控溅射
2.2样品表征方法
2.2.1X射线衍射
2.2.2原子力显微镜
2.2.3紫外-可见光分光光度计
2.2.4低温强磁场物性测量系统
2.2.5扫描电子显微镜
第三章La掺杂SrSnO3薄膜制备及输运测量
3.1引言
3.2薄膜的制备
3.2.1靶材的制备
3.2.2衬底的处理
3.2.3样品的生长
3.3结果与讨论
3.3.1薄膜的元素分析
3.3.2生长温度对La掺杂SrSnO3薄膜生长质量的影响
3.3.3氧分压对La掺杂SrSnO3薄膜生长质量的影响
3.3.4La掺杂SrSnO3的电输运测量
3.4本章小结
第四章掺杂浓度和晶格应力对于SrSnO3薄膜物性的调控
4.1引言
4.2样品的制备和表征
4.2.1薄膜的制备
4.2.2样品的表征方法
4.3结果与讨论
4.3.1不同La掺杂含量对薄膜结构和电学性能的影响
4.3.2随厚度变化的晶格应力对样品的影响
4.4本章小结
第五章总结与展望
5.1本论文的主要工作和结论
5.2实验的不足之处与工作展望
参考文献
致谢
参加的学术会议
山东大学;