MPCVD法单晶金刚石厚膜的制备研究

目录

声明

第1章 绪论

1.1金刚石的结构、性质及应用

1.2 CVD单晶金刚石的研究

1.3 MPCVD装置简介

1.4 CVD单晶金刚石的研究进展

1.5 本论文的研究意义与内容

第2章 实验装置和表征方法

2.1 实验装置的结构及原理

2.2 样品的表征

第3章 单晶金刚石厚膜的制备研究

3.1 引言

3.2 籽晶的预处理

3.3 单晶金刚石同质外延生长

3.4 高质量单晶金刚石厚膜的生长

3.5 厚晶体再次生长的研究

3.6 单晶金刚石长厚过程中生长速率的研究

3.7 本章总结

第4章 单晶金刚石的批量生长

4.1前言

4.2微波电磁场的模拟研究

4.3 单晶金刚石的批量生长

4.4 批量单晶金刚石生长质量的相关研究

4.5 本章总结

第5章 全文总结与展望

5.1 论文总结

5.2 论文展望

参考文献

攻读硕士期间发表的论文

致谢