脉冲电流快速退火对NiFe/FeMn薄膜磁性能的影响

目录

声明

第一章 绪论

1.1 引言

1.2 高频磁性薄膜及基础理论

1.2.1 高频磁性薄膜

1.2.2 高频磁性基础理论

1.3 脉冲电流快速退火技术

1.4 交换偏置及磁各向异性

1.4.1 交换偏置

1.4.2 磁各向异性

1.5 研究内容与创新之处

1.5.1 主要内容

1.5.2 本文的创新之处

第二章 试验仪器材料与方法

2.1 磁性薄膜的制备

2.2图形化电路制备

2.3干法刻蚀工艺

2.4试验耗材与设备

2.5 薄膜的表征方法

2.5.1 薄膜厚度的测量

2.5.2 X射线衍射分析

2.5.3 扫描电子显微镜分析

2.5.4 多物理场仿真

2.5.5静态磁性测量

2.5.6 各向异性磁电阻测量

2.5.7 动态磁性测量

第三章 脉冲电流快速退火平台的搭建

3.1 引言

3.2脉冲电流快速退火装置指标

3.3 真空源及退火炉

（1）真空源

（2）退火炉设计

3.4 直流源及脉冲电流发生装置

3.4.1直流源设计

3.4.2 脉冲电流发生装置设计选择

3.5 小结

第四章 交换偏置薄膜旋转各向异性调控

4.1 引言

4.2 薄膜样品的制备

4.2.1 薄膜样品的沉积

4.2.2 薄膜样品的成分及物相

4.2.3 薄膜样品的磁性能

4.3 不同磁场下样品的退火研究

4.3.1 无磁场退火

4.3.2 正向磁场退火

4.3.3 反向磁场退火

4.4 NiFe(10 nm)/FeMn(8 nm)反向退火实验

4.4.1样品结构研究

4.4.2 反向磁场退火样品的磁滞回线

4.4.3 反向磁场退火样品的VNA测试

4.4.4磁矩配置模型分析

4.5 本章小结

第五章 连续反平行交换偏置薄膜的研究

5.1 引言

5.2 样品表面图形化电路

5.3 30/120（w/d）型电路退火研究

5.4 50/200（w/d）型电路退火研究

5.4.1 连续薄膜退火研究

5.4.2退火后薄膜套刻研究

5.5 讨论

5.5.1 反平行交换偏置区域形成证明

5.5.2 机理解释

5.6 本章小结

第六章 结论与展望

6.1全文研究总结

6. 2后期研究展望

致谢

参考文献

攻读学位期间取得的研究成果