1 绪论
1.1 前言
1.2 Co涂层的制备工艺
1.2.1 化学镀(Electroless plating)
1.2.2 激光熔覆(Laser Cladding)
1.2.3 电沉积(Electrodeposition)
1.3 Re涂层的制备工艺
1.3.1 电子束物理气相沉积(EB-PVD)
1.3.2 熔盐电沉积(ED)
1.3.3 化学气相沉积(CVD)
1.4 Co-Re合金的抗氧化性
1.5 MOCVD概述
1.6 国内外研究现状
1.6.1 MOCVD设备研究现状
1.6.2化学气相沉积(CVD)模拟现状
1.7.1 研究目的
1.7.2 研究主要内容
1.7.3 研究创新点
2 Co-Re化学气相沉积设备总体方案设计
2.1.1 前驱体的选择
2.1.2 Co-Re化学气相沉积设备方案设计
2.2 化学气相沉积制备Co-Re合金涂层的热力学分析
2.2.1 化学气相沉积制备Co涂层的热力学分析
2.2.2 化学气相沉积制备Re涂层的热力学分析
2.2.3 Co、Re共沉积
2.3本章小结
3 Co-Re化学气相沉积设备机械系统设计
3.1.1结构设计
3.1.2加热装置设计
3.2.1多腔体金属化学气相沉积设备的必要性
3.2.2 金属化学气相沉积设备气路系统设计
3.3真空系统设计
3.4.1 计算流体动力学仿真意义
3.4.2 计算流体力学
3.4.3 反应几何模型
3.4.4 控制方程
3.4.5 ICEMCFD网格划分
3.4.6 FLUENT软件计算
3.4.7 结果与讨论
3.5 本章小结
4 Co-Re化学气相沉积设备控制系统设计
4.1压力控制
4.1.1反应室压力控制
4.1.2 反应室压力控制数学模型建立
4.1.3 压力控制系统方框图
4.2流量控制
4.2.1流量计特点
4.2.2 流量计选型
4.2.3 反应室氢气流量补偿控制
4.3温度控制
4.3.1热电偶工作原理
4.3.2反应室温度控制数学模型的建立
4.3.3 温度控制系统方框图
4.3.4 温控仪选型
4.4 本章小结
5 Co-Re化学气相沉积设备实现与结论
5.1 Co-Re化学气相沉积设备实现
5.2 实验结论
5.3 本章小结
6 总结与展望
6.1总结
6.2展望
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间的研究成果
西南科技大学;