一种制备Co-Re合金涂层的化学气相沉积方法

摘要

本发明公开了一种制备Co‑Re合金涂层的化学气相沉积方法，属于CVD制备领域，目的在于解决现有采用CVD法制备Co‑Re合金涂层的设备结构复杂，成本较高的问题。该方法采用的设备包括升华单元、第一反应气体发生器、第二反应气体发生器、反应器、第三反应气体发生器、管道单元、真空单元、控制系统，所述第三反应气体发生器通过管道与反应器相连且第三反应气体发生器能向反应器内充入反应气体，所述真空单元与反应器相连且真空单元能对反应器进行抽真空处理。采用本发明，能够制备出质量较好的Co‑Re合金涂层，且成本低，产品质量好，具有较高的应用价值和较好的应用前景。同时，本申请的制备方法反应条件温和，具有较高的安全性和可操作性，值得大规模推广和应用。