光学印模法与普通印模法制作的全瓷嵌体边缘适合性的比较

摘要

目的：研究采用光学印模法和普通印模法制作的全瓷嵌体与牙体组织间边缘适合性的比较。
　　方法：取1颗形态正常，无牙体缺损的下颌第二磨牙进行牙体预备，二次印模法取模翻制16个相同大小的超硬石膏模型代型，并将所有代型随机分为A,B两组，两组分别用光学印模法和普通印模法取模，制作16个氧化锆全瓷嵌体，然后采用扫描电镜对其边缘间隙厚度进行测量，应用SPSS19.0软件对实验数据进行统计分析，从而评价嵌体的边缘适合性。
　　结果：光学印模组和普通印模组制作的嵌体水平间隙宽度分别为（46.25±5.04）μm和（77.52±11.71）μm，片切法电镜扫描结果显示，两种方法制作的嵌体边缘测试点均小于120 m，边缘适合性比较差异均有统计学意义（P＜0.05）。
　　结论：光学印模和普通印模法对全瓷嵌体的边缘适合性有明显影响，光学印模组边缘适合性明显优于普通印模组，且两种方法制作的嵌体边缘适合性均在临床的可接受范围之内。

目录

声明

英文缩略词表

1 引言

2 材料与方法

2.1 主要实验材料和设备

2.2 试件的制备

2.3 嵌体的制作与粘结

2.4 试件的切割和边缘间隙的测量

2.5 评价标准和方法

2.6 统计学处理

3 结果

3.2 边缘适合性两组不同印模方法制作的嵌体边缘间隙测量结果

4讨论

4.1 边缘适合性的定义及临床标准的讨论

4.2影响嵌体边缘适合性的部分因素的讨论

4.3 普通印模法与光学印模法的优劣讨论

5 结论

参考文献

附录本 人 简 历

致谢

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