声明
摘要
1．1引言
1．2氮化物薄膜材料概述
1．2．1二元氮化物薄膜性质及应用
1．2．2多元氮化物薄膜材料
1．3国内外氮化物薄膜材料的研究动态
1．3．1国外氮化物薄膜研究现状
1．3．2国内氮化物薄膜研究现状
1．4氮化物薄膜材料制备方法
1．4．1化学气相沉积(CVD)
1．4．2物理气相沉积(PVD)
1．5研究的目的意义及主要研究内容
第2章实验原理及方法
2．1实验方案与流程
2．2实验原理及设备
2．2．1磁控溅射实验原理
2．2．2实验设备
2．2．3靶材的选取与基体预处理
2．3薄膜晶体结构和微观形貌表征
2．3．1 XRD物相分析
2．3．2透射电子显微镜
2．3．3表面形貌分析
2．4薄膜性能的表征
2．4．1显微硬度分析
2．4．2膜／基结合力分析
第3章TiAlSiN单层膜制备与性能的研究
3．1氮气流量对薄膜的结构和性能影响
3．1．1氮气流量对薄膜XRD的影响
3．1．2氮气流量对薄膜的微观形貌的影响
3．1．3氮气流量对薄膜显微硬度的影响
3．1．4氮气流量对薄膜结合力的影响
3．2沉积时间对薄膜的结构和性能影响
3．2．1沉积时间对薄膜XRD的影响
3．2．2沉积时间对对薄膜微观的影响
3．2．3沉积时间对薄膜显微硬度的影响
3．2．4沉积时间对薄膜结合力的影响
3．3溅射功率对薄膜的结构和性能影响
3．3．1溅射功率对薄膜XRD的影响
3．3．2溅射功率对薄膜微观形貌的影响
3．3．3溅射功率对薄膜显微硬度的影响
3．3．4溅射功率对薄膜结合力的影响
3．4基板温度对薄膜结构及性能影响
3．4．1基板温度对薄膜XRD的影响
3．4．2基板温度对薄膜微观形貌的影响
3．4．3基板温度对薄膜显微硬度的影响
3．4．4基板温度对薄膜结合力的影响
3．5不同的工艺参数EDS成分分析
3．6 TiAlSiN单层膜TEM分析
3．7本章小结
第4章TiAlSiN成分梯度膜和TiN／TiAlSiN多层调制膜制备及性能研究
4．1 TiAlSiN成分梯度膜的制备及性能研究
4．1．1渐变时间对TiAlSiN成分梯度膜XRD的影响
4．1．2渐变时间对TiAlSiN成分梯度膜微观形貌的影响
4．1．3渐变时间对TiAlSiN成分梯度膜显微硬度的影响
4．1．4渐变时间对TiAlSiN成分梯度膜结合力的影响
4．2 TiAlSiN成分梯度膜TEM分析
4．3 TiN-TiAlSiN成分梯度膜的制备及性能研究
4．3．1不同的TiN膜层对TiN-TiAlSiN成分梯度膜XRD的影响
4．3．3不同的TiN膜层对TiN-TiAlSiN成分梯度膜显微硬度的影响
4．3．4不同的TiN膜层对TiN-TiAlSiN成分梯度膜结合力的影响
4．4 TiN／TiAlSiN多层调制膜的制备及性能研究
4．4．1不同调制比对TiN／TiAlSiN多层调制膜的XRD能谱的影响
4．4．2不同调制比对TiN／TiAlSiN多层调制膜的微观形貌的影响
4．4．3不同调制比对TiN／TiAlSiN多层调制膜的显微硬度的影响
4．4．4不同调制比对TiN／TiAlSiN多层调制膜结合力的影响
4．5本章小结
第5章结论
参考文献
致谢
东北大学;
