声明
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 ZnO的晶体结构及性质
1.2.1 晶体结构
1.2.2 物理化学性质
1.2.3 其他性质
1.3 ZnO粉体及薄膜的制备工艺
1.4 气体传感器综述
1.4.1 气体传感器简介
1.4.2 气敏特性
1.4.3 气敏传感机理
1.5 ZnO基气体传感器研究现状与研究进展
1.6 本论文研究的内容及意义
第二章 实验材料、设备及表征
2.1 实验材料
2.2 实验设备
2.3 测试与表征
2.2.1 扫描电镜（SEM）
2.2.2 透射电镜（TEM）
2.2.3 X射线衍射（XRD）
2.2.4 光学性能表征
2.2.5 气敏性能表征
第三章 ZnO粉体的化学浴沉积及其气敏性能研究
3.1 引言
3.2 实验过程
3.2.1 粉体制备
3.2.2 气敏测试样片制备
3.3 ZnO粉体的表面形貌与结构表征
3.3.1 X射线衍射分析（XRD）和拉曼光谱分析（Raman）
3.3.2 扫瞄电镜分析（SEM）和透射电镜分析（TEM）
3.4 ZnO粉体的光学性能表征
3.4.1 紫外可见光光谱分析（UV-VIS）和光致发光光谱分析（PL）
3.5 ZnO粉体的气敏性能测试
3.5.1 最佳工作温度
3.5.2 响应值（灵敏度）
3.5.3 响应-恢复时间与重复性
3.5.4 气体选择性与稳定性
3.6 气敏机理
3.7 本章小结
第四章 ZnO纳米片阵列薄膜的化学浴沉积及气敏性能研究
4.1 引言
4.2 实验过程
4.2.1 溶胶制备
4.2.3 ZnO纳米片阵列薄膜制备
4.2.3 气敏测试样片制备
4.3 ZnO纳米片阵列薄膜的表面形貌与结构表征
4.3.1 X射线衍射分析（XRD）
4.3.2 扫瞄电镜分析（SEM）
4.3.3 透射电镜分析（TEM）
4.4 ZnO纳米片阵列薄膜的光学性能表征
4.4.1 紫外可见光光谱分析（UV-Vis）
4.5 ZnO纳米片阵列薄膜气敏性能,
4.5.1 最佳生长时间
4.5.2 响应值（灵敏度）
4.5.3 对比测试（全程无紫外光和全程开启紫外光）
4.5.4 响应-恢复时间与重复性
4.5.5 选择性
4.5.6 稳定性
4.6 气敏机理
4.7 本章小结
第五章 ZnO纳米棒阵列薄膜的化学浴沉积及气敏性能研究
5.1 引言
5.2 实验过程
5.2.1 溶胶制备
5.2.2 ZnO纳米棒阵列薄膜制备
5.2.3 气敏测试样片制备
5.3 ZnO纳米棒阵列薄膜的表面形貌与结构表征
5.3.1 X射线衍射分析（XRD）
5.3.2 扫瞄电镜分析（SEM）
5.3.3 透射电镜分析（TEM）
5.4 ZnO纳米棒阵列薄膜的光学性能表征
5.4.1 紫外可见光光谱分析（UV-Vis）
5.5 ZnO纳米棒阵列薄膜气敏性能
5.5.1 最佳生长时间
5.5.2 响应值（灵敏度）
5.5.3 对比测试（全程无紫外光和全程开启紫外光）
5.5.4 响应-恢复时间与重复性
5.5.5 选择性
5.5.6 稳定性
5.6 本章小结
结论
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间的科研成果
江苏大学;
