声明
第一章绪论
1.1 课题背景
1.2 微弧氧化技术的产生与发展
1.2.1 铝合金在硅酸盐电解下微弧氧化的放电模式
1.2.2 微弧氧化陶瓷层的物相
1.2.3 微弧氧化的特点及应用
1.3 微弧氧化技术在钢铁材料上的应用现状
1.3.1 钢铁表面直接制备氧化层
1.3.2 涂覆铝层后制备氧化陶瓷层
1.4 热浸镀铝技术的发展
1.5 课题的目的及意义
1.6 课题研究方案
1.6.1 研究内容
1.6.2 实验解决关键问题
第二章实验设备及方法
2.1 实验材料
2.2 实验设备
2.2.1 热浸镀铝实验设备
2.2.2 微弧氧化实验设备
2.2.3 其他实验设备
2.3 试验方法
2.3.1 试样前处理
2.3.2 热浸镀铝工艺
2.3.3 微弧氧化电解液的配置
2.3.4 微弧氧化涂层制备采用的电参数
2.3.5 氧化陶瓷层的剥离
2.4 膜层的表征及测试方法
2.4.1 微弧氧化层内外生长的分析
2.4.2 X射线衍射分析
2.4.3 镀层厚度的检测
2.4.4 镀层表面粗糙度的检测
2.4.5 镀层显微硬度的检测
2.4.6 镀层形貌及成分检测
2.4.7 镀层表面3D 形貌分析
2.4.8 镀层结合力检测
2.4.9 摩擦磨损实验
第三章工艺参数对铸铁镀铝微弧氧化层微观结构的影响
3.1 引言
3.2 铸铁热浸镀铝层厚度以及微观结构分析
3.3 氧化电压对微弧氧化层组织结构的影响
3.3.1 氧化电压对微弧氧化层组织结构的影响
3.4.2 氧化电压对膜层生长过程的影响
3.4.2 氧化电压对微弧氧化层成分及物相的影响
3.5 占空比对微弧氧化层微观结构的影响
3.5.1 占空比对膜层相组成的影响
3.5.2 占空比对膜层生长过程的影响
3.5.3 占空比对膜层微观形貌的影响
3.5.4 占空比对膜层表面粗糙度的影响
3.6 本章小结
第四章微弧氧化参数对氧化陶瓷层性能的影响
4.1 氧化电压对氧化陶瓷层性能的影响
4.1.1 氧化电压对氧化陶瓷层硬度的影响
4.1.2 氧化电压对微弧氧化层摩擦性能的影响
4.2 占空比对氧化陶瓷层性能的影响
4.2.1 占空比对氧化层结合力的影响
4.2.2 占空比对氧化陶瓷层硬度的影响
4.2.3 占空比对微弧氧化层摩擦性能的影响
4.3 本章小结
第五章铸铁基体对微弧氧化层组织性能的影响
5.1 铸铁基体对微弧氧化层组织与结构的影响
5.2 铸铁基体对微弧氧化层性能的影响
5.2.1 热震性能分析
5.2.2 铸铁基体对微弧氧化层耐磨性能的影响
5.3 本章小结
第六章结论
参考文献
硕士期间发表的学术论文
致 谢
河北工业大学;
