限域液态金属CVD法制备石墨烯纳米带的研究

目录

1 绪 论

1.1石墨烯纳米带的结构、性质与应用

1.2 石墨烯纳米带的合成途径

1.2.1 自上而下的合成途径

1.2.2 自下而上的合成途径

1.3 CVD合成石墨烯纳米带的研究进展

1.3.1 各向异性生长石墨烯纳米带

1.3.2 纳米催化剂模板法

1.4.1 课题的目的和意义

1.4.2 课题的研究内容

2 实验与分析测试方法

2.1.1 实验材料

2.1.2 实验设备

2.2.1 生长基底制备

2.2.2 CVD法制备石墨烯纳米带的过程

2.2.3石墨烯纳米带的转移方法

2.3.1 光学显微镜（OM）

2.3.2 拉曼光谱（Raman）

2.3.3 原子力显微镜（AFM）

2.3.4 扫描电子显微镜（SEM）

2.3.5 透射电子显微镜（TEM）

2.3.6 光致发光（PL）

3 限域液态金属CVD法制备石墨烯纳米带的研究

3.1 前言

3.2 实验结果与讨论

3.2.1 基底升温方式对铜金属催化剂形貌的影响

3.2.2 溅射时间对铜金属催化剂形貌的影响

3.2.3 重力对铜金属催化剂形貌的影响

3.2.4 退火温度对铜金属催化剂形貌的影响

3.2.5 退火时间对铜金属催化剂形貌的影响

3.2.6 氢气流量对石墨烯纳米带生长的影响

3.2.7 甲烷流量对石墨烯纳米带生长的影响

3.2.8 金属种类对石墨烯纳米带生长的影响

3.2.9 石墨烯纳米带的形貌表征

3.2.10 石墨烯纳米带的光致发光（PL）性能和场效应性能测试

3.3 本章小结

4 总 结

4.1 结论

4.2 展望

参考文献

附录

A．学位论文数据集

致谢

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