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目录
1 绪论
1.1 新型稀磁半导体的研究背景
1.2 新型稀磁半导体国内外研究现状
1.3 论文选题意义
1.4 本论文的主要内容和框架
2 新型稀磁半导体制备原理及实验相关设备介绍
2.1 新型稀磁半导体制备原理及方法
2.2 实验所涉及的硬件条件及其原理
2.3 本章小结
3 (La,AE)(Ag0.925Mn0.075)SO和(Y,AE)(Cu0.925Mn0.075)SO(AE=Sr, Ba)新型稀磁半导体的制备及其结构与电磁性能分析
3.1 (La1-xBax)(Ag0.925Mn0.075)SO的制备及其物性分析
3.2 (La1-xSrx)(Ag0.925Mn0.075)SO的制备与物性分析
3.3 (Y1-xBax)(Cu0.925Mn0.075)SO的制备与物性分析
3.4 (Y1-xSrx)(Cu0.925Mn0.075)SO的制备与物性分析
3.5 本章小结
4 (La1-xSrx)(Ag0.925Mn0.075)SO和(Y1-xSrx)(Cu0.925Mn0.075)SO的PL谱研究
4.1 光致发光光谱测试
4.2 (La1-xSrx)(Ag0.925Mn0.075)SO稀磁半导体的PL谱研究
4.3 (Y1-xSrx)(Cu0.925Mn0.075)SO稀磁半导体的PL谱研究
4.4 本章小结
5 全文总结与展望
5.1 全文总结
5.2 下一步的工作和展望
参考文献
作者简历