声明
第1章 绪论
1.1引言
1.2太阳能电池表面结构的发展历程
1.3硅纳米线太阳能电池的光反射特性
1.4硅纳米线太阳能电池制备的研究现状
1.5本文的主要内容
第2章 电场下MaCE制备太阳能表面微纳结构的理论基础
2.1引言
2.2金属辅助化学刻蚀法(MaCE)机理
2.3硅纳米线的可控制备机理
2.4电场对于刻蚀单晶硅的影响
2.5硅纳米线结构的减反射理论依据
2.6本章小结
第3章 实验研究
3.1引言
3.2实验平台设计
3.3实验方案
3.4实验过程与步骤
3.5实验设备与试剂
3.6本章小结
第4章 电场作用下制备的硅纳米线结构的形貌分析
4.1引言
4.2电场对MaCE刻蚀硅纳米线阵列结构的影响
4.3电场强度对MaCE制备硅纳米线阵列结构及刻蚀速率的影响
4.4电场作用下氧化剂浓度对MaCE制备硅纳米线阵列结构的影响
4.5电场方向对MaCE制备硅纳米线阵列结构的影响
4.6本章小结
第5章 电场作用下制备的硅纳米线结构的反射率分析
5.1引言
5.2电场对硅纳米线结构的反射率影响
5.3电场强度对硅纳米线结构的反射率分析
5.4电场作用下氧化剂浓度对MaCE制备硅纳米线结构的反射率分析
5.5电场方向对MaCE制备硅纳米线阵列结构的反射率分析
5.6本章小结
第6章 总结与展望
6.1总结
6.2展望
参考文献
致谢
附录