声明
摘要
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 表面等离子体概述
1.2.1 表面等离子体的色散关系
1.2.2 表面等离子体的激发方式
1.3 表面等离子体非对称激发概述
1.3.1 不对称微纳结构非对称激发SPP
1.3.2 入射光偏振不对称非对称激发SPP
1.4 本文的主要研究内容及章节安排
参考文献
第2章 高阶模厄米高斯光分析与产生
2.1 高阶厄米高斯光束的数学描述
2.2 高阶厄米高斯光束的数值模拟
2.2.1 FDTD原理介绍
2.2.2 FDTD模拟一阶模厄米高斯光束
2.3 高阶厄米高斯光束的产生方法
2.3.1 径向偏振光的生成
2.3.2 一阶模厄米高斯光束的生成
2.4 本章小结
参考文献
第3章 高阶高斯光束与金属狭缝阵列结构理论研究
3.1.1 单狭缝模型的理论分析
3.1.2 FDTD模拟单狭缝模型的远场分布
3.2 金属双狭缝结构的SPP激发
3.2.1 金属双狭缝结构的理论分析
3.2.2 FDTD模拟双狭缝模型的远场分布
3.2.3 FDTD模拟双狭缝模型的近场分布
3.3 金属狭缝阵列结构非对称激发SPP
3.3.1 基于偶极子理论的金属狭缝阵列结构
3.3.2 FDTD模拟金属狭缝阵列结构的远场分布
3.3.3 FDTD模拟金属狭缝阵列结构的近场分布
3.3.4 金属狭缝阵列模型的参数分析
3.4 本章小结
参考文献
第4章 基于泄露辐射的SPP非对称激发实验表征
4.1 基于泄露辐射的后焦面成像系统
4.1.1 泄露辐射的原理
4.1.2 后焦面成像原理
4.1.3 基于OlympusX71型倒置显微镜的LRM系统
4.2 SPP非对称激发效应的后焦面表征
4.2.1 金属狭缝阵列结构的制备
4.2.2 后焦面表征的实验结果及分析
4.2.3 动态调控SPP非对称激发分束比的实验结果
4.3 SPP非对称激发效应的前焦面表征
4.3.1 光栅表征表面等离子体概述
4.3.2 刻有光栅的金属狭缝阵列结构的制备
4.3.3 前焦面表征的实验结果及分析
4.4 本章小结
参考文献
第5章 工作总结与展望
5.1 工作总结
5.2 展望
致谢
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果