封面
声明
中文摘要
英文摘要
目录
1 绪 论
1.1 引言
1.2薄膜材料的特点和应用
1.3 Ti02的物理化学性质
1.4 Ti02薄膜应用领域与进展
1.5 TiO2薄膜的制备技术
1.6本文的主要工作
2 等离子体化学气相沉积的实验研究
2.1 引言
2.2 等离子体化学气气相沉积薄膜的反应机理
2.3 等离子体化学气气相沉积装置结构
2.4 等离子体薄膜的制备研究
2.5 本章小结
3 TiO2薄膜实验、测试和表征仪器
3.1 实验仪器
3.2 测试和表征仪器
4 工艺参数与薄膜特性之间的关系
4.1 引言
4.2 工艺参数对沉积速率速率影响
4.3沉积时间对硅表面温度的影响
4.4工艺参数对薄膜表面形貌影响
4.5工艺参数对薄膜晶体结构的影响
4.6工艺参数对薄膜光学性能的影响
4.7本章小结
5 结论与展望
5.1 本论文完成的主要工作
5.2 主要结论
5.3 存在的问题与下一步工作设想
致谢
参考文献
附 录 1 作者在攻读硕士期间发表的学术论文
