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张亚萍;
浙江理工大学;
锗单晶片; 半导体材料; 酸碱化学腐蚀; 表面抛光; 空化效应;
机译:单锗和多晶锗衬底上单锗酸镍的热稳定性研究
机译:使用单源前体四(二乙氨基二硫代氨基甲酸)钼酸盐(IV)制备硫化钼和锗化物薄膜的表面化学路线
机译:Pt(111)/ Si晶片和FTO玻璃衬底上TiO2纳米结构的表面化学和微观结构的研究:比较方法
机译:使用单源前驱体通过化学气相沉积法在硅和锗晶片上制备高K硅酸HA膜
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:使用成骨肽的钛表面生物功能化:表面化学生物相容性腐蚀和摩擦腐蚀方面
机译:应变诱导硅晶片表面化学特性建模的研究
机译:I.脉冲偏振器及其在腐蚀研究中的应用:Ii。表面化学和腐蚀研究中接触和表面电位测量的动态凝聚器方法:文献调查
机译:硅晶片单表面化学机械抛光的方法和装置
机译:新的锗官能化的单取代的(锗烷氧基取代的)倍半硅氧烷和获得锗官能化的单取代的(锗烷氧基取代的)倍半硅氧烷的方法
机译:硅锗外延晶片的制造方法及硅锗外延晶片
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