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第一章绪论
1.1引言
1.2四氢吡喃保护基团的引入
1.2.1在质子酸条件下引入四氢吡喃醚保护基
1.2.2在Lewis酸条件下引入四氢吡喃醚保护基
1.2.3在碱性条件下引入四氢吡喃醚保护基
1.2.4在中性条件下引入四氢吡喃醚保护基
1.2.5在过渡金属催化下引入四氢吡喃醚保护基
1.2.6在非均相催化剂催化下引入四氢吡喃醚保护基
1.3四氢吡喃保护基团的解保护
1.3.1四氢吡喃醚基在酸性条件下解保护
1.3.2四氢吡喃醚基在中性条件下解保护
1.3.3四氢吡喃醚基在还原条件下解保护
1.4将四氢吡喃醚保护基转化成其它基团
1.4.1取代反应
1.4.2氧化脱除生成羰基化合物
1.5结束语
参考文献
第二章PdCl2(CH3CN)2催化下的四氢吡喃醚基团(THP)的选择性保护和解保护研究
2.1引言
2.2 PdCl2(CH3CN)2催化下THP保护基团的解保护的研究结果与讨论
2.2.1反应条件研究
2.2.2 PdCl2(CH3CN)2作用下一些THP底物的解保护研究
2.2.3 PdCl2(CH3CN)2作用下解THP保护基团机理的简单探讨
2.3 PdCl2(CH3CN)2作用下羟基转化成THP醚反应的研究结果与讨论
2.3.1 反应条件研究
2.3.2 PdCl2(CH3CN)2作用下一些羟基底物转变成THP醚的反应研究
2.3.3 PdCl2(CH3CN)2作用下羟基转化成THP醚反应的机理讨论
2.4实验部分
2.4.1测试仪器
2.4.2原料与试剂
2.5本章小结
参考文献
第三章TBSCl作用下的四氢吡喃醚基团(THP)的选择性解保护研究
3.1引言
3.2结果与讨论
3.2.1反应条件研究
3.2.2 TBSCl作用下一些THP底物的解保护研究
3.3实验部分
3.3.1测试仪器
3.3.2原料与试剂
3.4本章小结
参考文献
总结
附录一:谱图
附录二:致谢
附录三:作者简介
附录四:硕士期间发表和待发表论文
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