一种OPC友好的迷宫布线算法

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本文提出了一种OPC友好的迷宫布线算法：在布线的同时进行快速点光强计算，来预测走线对未来OPC的影响，避免可能导致OPC失败的布线结果，同时尽可能减少OPC需要做出的校正。超深亚微米集成电路制造中广泛应用OPC技术来减少掩模图形的光刻畸变，改善成像质量。然而在当前的设计流程中，版图设计者并没有考虑版图的OPC友好性问题，从而使一些图形由于原始形状限制无法进行充分的OPC校正处理。

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作者
张一帆;
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作者单位

浙江大学;

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授予单位浙江大学;
学科电路与系统
授予学位硕士
导师姓名王维维;
年度 2006
页码
总页数
原文格式 PDF
正文语种中文
中图分类印刷电路;
关键词
迷宫布线; 掩模图形; 光刻畸变; 成像质量; 集成电路;

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