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致谢
第一章 绪论
§1.1硅纳米光集成器件的背景与现状
§1.2本论文主要内容及创新点
§1.2.1主要内容
§1.2.2创新点
第二章 光波导数值模拟方法
§2.1平板光波导理论
§2.2等效折射率法(Effective Index Method)
§2.3标量衍射法(Scalar Integral Diffraction Method)
§2.4束传播法(Beam Propagation Method)
§2.5时域有限差分法(Finite-Difference Time-Domain Method)
§2.6完美匹配层边界条件(Perfectly Matched Layer)
§2.7 BPM方法与FDTD方法的结合
§2.8本章小结
第三章 光波导器件的制作工艺及测试方法
§3.1集成光波导器件的制作工艺
§3.1.1简介
§3.1.2 PECVD长膜
§3.1.3电子束曝光(E-beam Lithography)
§3.1.4干法刻蚀(Dry Etching)
§3.2集成光波导器件的测试
§3.2.1端面耦合法(End-fire Coupling Method)
§3.2.2垂直耦合法(Vertical Coupling Method)
§3.3本章小结
第四章 一些硅基纳米光子集成器件(一):蚀刻衍射光栅波分复用器
§4.1 EDG的基本原理与设计
§4.1.1 EDG的基本原理
§4.1.2 EDG的设计方法
§4.1.3 EDG的数值模拟计算
§4.2 EDG的衍射效率
§4.3 EDG器件的一个应用:单纤三向器件(Triplexer)
§4.4 EDG器件的偏振相关波长偏移(Polarization Dependent Wavelength Shift)
§4.4.1集成浅刻蚀偏振补偿区域法
§4.4.2双凹面光栅偏振补偿法
§4.5本章小结
第五章 一些硅基纳米光子集成器件(二):光子晶体器件
§5.1光子晶体(Photonic Crystals)
§5.1.1光子晶体基本概念
§5.1.2光子晶体谐振腔
§5.2本章小结
第六章 总结与展望
参考文献
附录:发表的期刊及会议论文