上颌磨牙根颊侧植入微种植体支抗钉用于全牙列远移的CBCT骨量分析

摘要

磨牙组或整个上颌牙列同时远中移动是一种不同于传统单个推磨牙向后的新方法。目前国内外已有数位学者尝试用各种支抗装置远中移动磨牙组或全牙列，以实现成人或青少年的不拔牙矫治。有学者认为植入上颌第二磨牙近中颊根颊侧的微种植体支抗钉能在内收牙列过程中不妨碍磨牙远中移动，是一种较好的微种植体支抗新技术。本研究旨在全面分析上颌磨牙根颊侧植入微种植体支抗钉用于全牙列远移方法运用的可行性。
　　 植入安全性和可远移量是上颌磨牙根颊侧植入微种植体支抗钉远移全牙列的两个关键。正畸患者中在上颌磨牙根颊侧可植入微种植体支抗钉的百分比可反映各部位的植入安全性；植入部位前方根间距的大小可反映磨牙的可远移量。按纳入标准选取88名正畸初诊患者的CBCT影像资料，根据上颌第二磨牙颊根数目分为双颊根组和单颊根组。测量上颌第一磨牙和上颌第二磨牙根颊侧的实际骨厚度及在相应部位与上颌(牙合)平面成70°角植入微种植体支抗钉所需骨厚度，比较这两组数据得出研究对象中可按该方法植入微种植体支抗钉的百分比。测量各植入部位前方沿弓形方向的根间距，分析磨牙的可远移量。结果显示：在上颌磨牙各根颊侧均有一定比例患者可植入微种植体支抗钉，双颊根组最高可植入百分比位于上颌第二磨牙近中颊根颊侧6mm高度，为85.70％；单颊根组位于上颌第二磨牙根颊侧6mm高度，为91.38％。上颌磨牙近中颊根前方根间距较大，远中颊根前方根间距较小。
　　 总之，上颌磨牙各根颊侧均有部分病例可植入微种植体支抗钉，最佳部位为上颌第二磨牙近中颊根或单根颊侧，但也非绝对安全。上颌磨牙根颊侧植入微种植体支抗钉用于全牙列远移方法的应用需要个体分析。