声明
摘要
第1章 绪论
1.1 VO2材料的研究背景
1.2 VO2的相变机理介绍
1.3 VO2相转变的激励方式及其机理介绍
1.4 VO2相变性质的应用前景
1.5 本文的研究内容
第2章 理论基础
2.1 多粒子问题
2.2 解决多粒子问题的早期尝试
2.2.1 自由电子模型
2.2.2 Hartree和Hartree-Fock方法
2.2.3 Thomas-Fermi理论
2.2.4 多电子体系近似方法
2.3 密度泛函理论
2.3.1 Hohenberg-Kohn定理
2.3.2 Kohn-Sham方程
2.4 LDA和GGA近似处理方法
2.5 赝势平面波方法
2.6 Materials Studio介绍
第3章 VO2块材料相变特性及氧空位缺陷的影响研究
3.1 单斜相(M1相)VO2块材料相变特性及氧空位的影响研究
3.1.1 M1相VO2块材料相变性质计算
3.1.2 氧空位浓度对M1相VO2块材料电学性质的影响
3.1.3 氧空位浓度对M1相VO2块材料光学性质的影响
3.2 四方金红石相(R相)VO2块材料相变特性及氧空位的影响研究
3.2.1 R相VO2块材料相变性质计算方法
3.2.2 氧空位浓度对R相VO2块材料电学性质的影
3.2.3 氧空位浓度对R相VO2块材料光学性质的影响
3.3 电子库伦排斥作用对VO2相变性质的影响研究
3.4 本章小结
第4章 VO2纳米线相变特性及氧空位缺陷的影响研究
4.1 单斜相(M1相)VO2纳米线相变特性及氧空位影响研究
4.1.1 M1相VO2纳米线相变性质计算方法
4.1.2 氧空位浓度对M1相VO2纳米线电学性质的影响
4.1.3 氧空位浓度对M1相VO2纳米线光学性质的影响
4.2 四方金红石相(R相)VO2纳米线相变特性及氧空位影响研究
4.2.1 R相VO2纳米线相变性质计算方法
4.2.2 氧空位浓度对R相VO2纳米线电学性质的影响
4.2.3 氧空位浓度对R相VO2纳米线光学性质的影响
4.3 本章小结
第5章 总结与展望
5.1 总结
5.2 工作展望
参考文献
发表论文和参加科研情况说明
致谢