高纯氧化钕ICP-AES无基体匹配定量分析方法的研究

摘要

该文采用ICP摄谱法对高纯氧化钕的基体效应—光谱干扰和非光谱干扰进行研究和校正.通过

目录

文摘

英文文摘

引言

第一章高纯稀土氧化物ICP-AES分析方法研究现状

1 ICP-AES直接分析法

2 ICP-AES光谱干扰的校正

3 ICP-AES非光谱干扰的校正

第二章氧化钕基体光谱干扰效应的观察和校正方法研究

1光谱干扰校正原理

2仪器及实验条件（见表2-1）

3溶液的配制

4结果和讨论1

4结果和讨论2

第三章光谱干扰—非光谱干扰联合校正无基体匹配分析方法

1非光谱干扰效应的统计检验和校正原理

2仪器及实验条件

3溶液的配制

4分析线的选择

5结果和讨论

第四章稀土杂质检出限和精密度与氧化钕基体浓度关系

1原理

2仪器和实验条件（见表2-3）

3溶液的配制（见表2-4）

4结果和讨论

第五章Nd2O3基体非光谱干扰机理的研究

1原理

2仪器和实验条件

3溶液的配制

4分析线及测温谱线

5.结果与讨论

结论

文献

致谢

附：本文勘误表