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第一章绪论
1.1 CIMS系统的背景
1.2什么是CIMS
1.3 CIMS的发展现状
1.4 IC行业的工艺流程和特点
1.3 IC企业进行信息共享、系统集成的必要性和意义
1.5论文的主要内容、章节安排
第二章IC制造工业流程及CIMS系统结构
2.1 IC简介
2.2半导体的生产流程
2.2.1晶圆(Wafer)
2.2.2光学显影(PHOTO)
2.2.3干式蚀刻技术(ETCH)
2.2.4化学气象沉积技术(CVD)
2.2.5物理气象沉积技术(PVD)
2.2.6解离金属电浆(IMP)
2.2.7高温工艺
2.2.8离子注入技术(IMPLANT)
2.2.9化学机械研磨(CMP)
2.2.10工艺监控
2.2.11光罩检测
2.2.12切割
2.2.13封装
2.2 CIMS的系统结构
2.2.1制造执行系统(MES----Manufacturing Execution System)
2.2.2设备自动化程序(EAP)
第三章MES系统
3.1 MES简介
3.2 PROMIS系统简介和用户需求
3.3 PROMIS详细系统功能和设计
3.3.1 PROMIS对料管理的功能
3.3.2 PROMIS对流程管理的功能
3.3.3 PROMIS对设备管理的功能
3.3.4 PROMIS主要模块说明
3.4 PROMIS功能的实现
3.4.1 PROMIS系统总体架构
3.4.2 PROMIS系统底层控制进程
3.4.3 PROMIS系统数据流程图
3.4.4关于PROMIS系统配置表和数据库文件
第四章MES系统与其他CIMS系统的通讯
4.1 MES系统的事务处理(Transaction Processing)机制
4.2 TP信息流向
第五章PROMIS系统实施
5.1项目的的范围和存在的风险
5.2系统实施主要过程和结果
5.2.1 PROMIS系统的升级
5.2.2确定新的OEE状态设置
5.3.3安装表
第六章设备自动化系统
6.1设备自动化系统的用户需求
6.1.1 KLA CDSEM简介
6.1.2 ASYST SMART-TAG ST8400简介
6.1.3生产流程的确立
6.2 KLA CDSEM设备自动化系统的分析
6.2.1全自动化的Scenario
6.2.2 CDSEM的状态转换分析
6.2.3在控制状态时的状态转换
6.3 KLA CDSEM设备自动化系统的设计
6.3.1设备自动化通信方式
6.3.2设备自动化通信协议
6.3.3 KLA CDSEM设备自动化系统的系统开发平台
6.3.4设备自动化系统的系统架构
6.3.5设备自动化设计的各模块说明
6.4 KLA CDSEM设备自动化实现
6.4.1 EAP开发工具STATIONworks简介
6.4.2 WinSECS概述
6.4.3用FASTsim模拟KLA CDSEM和SMART-TAG
6.4.5 CDSEM的EAP实现
6.4.5 CDSEM的EAP程序开发
6.5 EAP程序测试
6.5.1建立模拟环境
6.5.2 EAP测试结果
参考文献
致谢
南开大学;