声明
1 绪论
1.1 研究背景与选题意义
1.2 硅纳米线阵列的制备方法
1.3 硅纳米线阵列的物理特性及应用研究
1.4 本论文的研究目的和主要内容
2 实验方法及分析表征
2.1 实验设备及试剂
2.2 实验方法
2.3 硅纳米线的表征
2.4 本章小结
3 一维硅纳米线阵列纳米球掩膜法的可控性制备
3.1 纳米球掩模板的制备
3.2 纳米球模板和Au网孔的可控性研究
3.3硅纳米线阵列的尺寸控制
3.4 硅纳米线阵列形貌的控制
3.5 本章小结
4 一维硅纳米线阵列的光刻法图形化制备
4.1 引言
4.2 硅纳米线的图形化制备
4.3 图形化的硅纳米线形貌的控制
4.4 本章小结
5 硅纳米线的结构及性能研究
5.1 引言
5.2 透射电镜分析
5.3荧光光谱分析
5.4 紫外-可见吸收光谱
5.5 X射线衍射分析
结论
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果