声明
摘要
1 绪论
1.1 衍射极限和分辨率标准
1.2 微纳光刻技术研究现状
1.3 微球透镜辅助光刻研究进展
1.4 本文研究的意义及内容安排
2 微球透镜辅助光刻法
2.1 微球透镜的聚焦特性
2.2 数值研究方法和软件介绍
2.2.1 数值研究方法
2.2.2 软件介绍
2.3 微球透镜辅助光刻的应用
2.4 本章小结
3 改进型微球辅助光刻研究
3.1 数值研究
3.2 实验研究
3.2.1 样品准备
3.2.2 激光加工
3.3 实验结果和讨论
3.3.1 间隔层厚度和曝光剂量对小孔尺寸的影响
3.3.2 优化间隔层厚度和曝光剂量
3.4 优化参数实现超35nm光刻分辨率
3.5 本章小结
4 结论
4.1 结论
4.2 展望
参考文献
致谢
在校期间的科研成果