封面
声明
中文摘要
英文摘要
目录
符号和缩略词说明
第一章 绪 论
1.1 选题意义
1.2 类金刚石薄膜简介
1.3 类金刚石薄膜制备方法
1.4 国内外类金刚石薄膜研究现状
1.5 本文主要研究内容
第二章 射频磁控溅射制备无掺杂类金刚石涂层
2.1 射频磁控溅射原理与设备
2.2 基体材料的选取
2.3 制备工艺
2.4 类金刚石涂层的表征
2.5 本章小结
第三章 闭合场非平衡磁控溅射制备类金刚石涂层
3.1 非平衡磁控溅射原理与设备
3.2 基体材料的选取及预处理
3.3制备工艺
3.4类金刚石涂层的表征
3.5 本章小结
第四章 闭合场非平衡磁控溅射制备掺硼类金刚石涂层
4.1 掺杂元素的作用
4.2 涂层制备
4.3涂层的表征
4.4 本章小结
第五章 总结与展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表的学术论文
致谢
上海工程技术大学;