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独创性声明和关于论文使用授权的说明
第一章引言
1.1器件结构与工艺步骤
1.1.1工艺步骤
1.1.2自对准双极晶体管
1.1.3 n沟和p沟MOS管
1.1.4金属化工艺
1.2电学性能
1.2.1 npn管和CMOS参数
1.2.2基本门单元
1.3课题背景和意义
1.4本文主要的工作
第二章电路原理与设计
2.1电流源基本单元电路原理
2.1.1基本型恒流源
2.1.2电阻比例恒流源
2.1.3基本型PNP恒流源
2.1.4基本MOS管恒流源
2.2基准源基本单元电路原理
2.2.1双极型二管能隙基准源
2.2.2双极型三管能隙基准源
2.3单片式
2.3.1主回路
2.3.2输出保护电路
2.3.3工作电源保护电路
2.4双片式
2.4.1电路工作原理
2.4.2输入滞回比较器
2.4.3电源电压保护电路
2.4.4基准电压源
2.4.5整体仿真
第三章仿真结果与分析
3.1输入信号转折电平
3.2输出电流
3.3漏电流
3.4驱动管宽长比对导通电阻的影响
3.5输出管面积因子对导通电阻的影响
3.6部分电阻对输出电压、输出电流和导通电阻的影响
3.7电路正常工作时的电源电压范围
3.8部分电阻阻值之和对输入转折电平的影响
3.9功耗估算
3.10导通电阻
3.11开关速度
第四章纵向PNP管的设计
4.1整体结构
4.2纵向剖面图
4.3基区宽度
4.4外延层载流子寿命
4.5反向分析
4.5.1理论分析
4.5.2模拟分析
4.5.3表面产生电流
4.5.4开关速度
4.6材料与工艺
第五章工艺与版图设计
5.1工艺概述
5.2主要器件纵向剖面图
5.3材料制备
5.4版图概述
5.5横向PNP晶体管结构及版图
5.5.1典型横向PNP晶体管结构与特性
5.5.2可控增益横向PNP管的结构与特性
5.5.3扩展电极增强电流法
5.6纵向PNP晶体管的结构及版图
5.6.1典型纵向PNP晶体管结构和特性
5.6.2芯片中纵向PNP晶体管结构和特性
5.7 NMOS场效应管结构及版图
5.7.1典型NMOS场效应管结构与特性
5.7.2芯片中的NMOS管
5.8集成电阻器
5.9齐纳击穿阻值修正工艺
5.10版图设计规则
5.11主要版图验证函数
第六章总结
参考文献
致谢
附录一
附录二
附录三
附录四
附录五
附录六
附录七
附录八
附录九
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