摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 磁记录技术及材料的发展
1.2.1 磁记录技术的发展
1.2.2 磁记录材料的发展
1.3 钴铁氧体薄膜的应用与研究进展
1.3.1 钴铁氧体及其研究应用
1.3.2 钴铁氧体薄膜的研究进展
1.4 本论文的研究内容
第二章 CoFe_2O_4薄膜的制备、表征和测试
2.1 实验方法及过程
2.2 CoFe_2O_4薄膜的制备
2.2.1 靶材的制备
2.2.2 基片的选择与清洗
2.2.3 薄膜的制备方法
2.3 CoFe_2O_4薄膜的分析和测试
2.3.1 薄膜的相结构分析
2.3.2 薄膜的微观形貌分析
2.3.3 薄膜的微观组分分析
2.3.4 薄膜的磁性能测试
第三章 CoFe_2O_4/Si(100)薄膜的微观结构和磁性能
3.1 薄膜制备
3.2 CoFe_2O_4/Si(100)薄膜的微观结构与形貌分析
3.2.1 CoFe_2O_4/Si(100)薄膜的微观结构
3.2.2 CoFe_2O_4/Si(100)薄膜的形貌
3.3 CoFe_2O_4/Si(100)薄膜的磁性能
3.4 退火温度对薄膜居里温度的影响
3.5 本章小结
第四章 CoFe_2O_4/Fe_3O_4/Si(100)薄膜的微观结构和磁性能
4.1 Fe_3O_4缓冲层和CoFe_2O_4薄膜的制备
4.2 Fe_3O_4缓冲层的微观结构
4.3 缓冲层厚度和基片温度对薄膜性能影响
4.4 CoFe_2O_4/Fe_3O_4/Si(100)薄膜形貌和微观结构表征
4.4.1 CoFe_2O_4/Fe_3O_4/Si(100)薄膜的微观结构
4.4.2 CoFe_2O_4/Fe_3O_4/Si(100)薄膜的形貌分析
4.5 CoFe_2O_4/Fe_3O_4/Si(100)薄膜的磁性能
4.6 本章小结
第五章 CoFe_2O_4/TbFeCo/Si(100)薄膜的微观结构和磁性能
5.1 TbFeCo缓冲层和CoFe_2O_4薄膜的制备
5.2 CoFe_2O_4/TbFeCo/Si(100)薄膜的微观结构和形貌分析
5.2.1 CoFe_2O_4/TbFeCo/Si(100)薄膜的微观结构
5.2.2 CoFe_2O_4/TbFeCo/Si(100)薄膜的形貌分析
5.3 CoFe_2O_4/TbFeCo/Si(100)薄膜的磁性能
5.4 退火温度对薄膜居里温度的影响
5.5 本章小结
第六章 结论
致谢
参考文献
攻读硕士期间取得的研究成果