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第一章 绪论
1.1 研究背景
1.2 VO2氧化钒薄膜的应用
1.3 VO2氧化钒薄膜用于非致冷红外焦平面阵列
1.4 氧化钒薄膜的主要制备方法
1.4.1 溶胶—凝胶法
1.4.2 溅射法
1.4.3 反应蒸发法
1.4.4 其它制备方法
1.4.5 薄膜制备方法比较
1.5 氧化钒薄膜掺杂的作用
1.6 掺杂氧化钒薄膜的制备方法
1.6.1 溅射法掺杂
1.6.2 反应蒸发镀法掺杂
1.6.3 水热合成掺杂
1.6.4 离子注入法掺杂
1.6.5 溶胶一凝胶掺杂
1.7 常见氧化钒的结构及性质
1.7.1 五氧化二钒
1.7.2 二氧化钒的结构
1.7.3 二氧化钒的能带结构变化
1.7.4 二氧化钒薄膜的性质
1.8 掺杂对相变的影响
1.9 选题依据及主要内容
第二章 实验方法
2.1 试剂及仪器
2.1.1 主要试剂
2.1.2 仪器
2.2 掺杂VOx薄膜制备的工艺流程
2.3 基片的处理
2.4 旋涂成膜
2.5 掺杂VOx薄膜性能测试手段
2.5.1 掺杂VOx薄膜电学性能测试
2.5.2 成分分析-X射线光电子能谱
2.5.3 厚度测试—椭圆偏振法
2.6 小结
第三章 掺钼VOx薄膜的制备及特性研究
3.1 引言
3.2 实验方法
3.3 实验结果与分析
3.3.1 掺杂浓度对薄膜电学性能的影响
3.3.2 钼掺杂氧化钒薄膜的均匀性
3.3.3 厚度对电学性能的影响
3.3.4 掺钼VOx薄膜的成分分析
3.4 小结
第四章 掺钨VOx薄膜的制备及特性研究
4.1 试验方法
4.2 实验结果与分析
4.2.1 掺杂浓度对薄膜电学性能的影响
4.2.2 钨掺杂氧化钒薄膜的均匀性
4.2.3 厚度对电学性能的影响
4.2.4 掺钨VOx薄膜的成分分析
4.3 两种元素掺杂结果比较
4.3.1 薄膜的均匀性
4.3.2 薄膜的方阻与TCR
4.3.3 掺杂元素在薄膜中的存在形式
4.3.4 微观分析比较
4.4 小结
第五章 结论与展望
5.1 结论
5.2 展望
致谢
参考文献
攻硕期间取得的研究成果