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第1章 绪论
1.1 XRF技术产生和发展历史
1.2 影响X射线荧光光谱技术定量分析精度的因素
1.2.1 谱线干扰
1.2.2 环境气体的干扰
1.2.3 基体的影响
1.3 常用仪器分析定量分析方法
1.3.1 X射线光电子能谱法(XPS)
1.3.2 俄歇电子能谱法(AES)
1.3.3 二次离子质谱法(SIMS)
1.3.4 能量散射X射线光谱法(EDAX)
1.3.5 激光诱导击穿光谱法(LIBS)
1.3.6 X射线荧光光谱分析法(XRF)
1.4 本课题研究的内容及研究意义
第2章 X射线荧光光谱分析原理
2.1 X射线和X射线荧光光谱的基本理论
2.1.1 X射线和X射线光谱
2.1.2 特征荧光X射线
2.1.3 X射线的吸收和散射
2.2 波长色散X射线荧光光谱仪
2.2.1 激发系统
2.2.2 分光系统
2.2.3 探测系统
2.3 X射线荧光光谱分析
2.4 X射线荧光光谱技术的特点
2.5 本章小结
第3章 X射线荧光光谱定量分析方法的研究
3.1 背景介绍
3.2 提高定量分析精度的方法
3.2.1 样品处理
3.2.2 光谱分析
3.3 本章小结
第4章 X射线荧光光谱实验设计
4.1 实验装置
4.1.1 X射线管
4.1.2 X射线光路
4.1.3 SDD探测器
4.2 样品及制备方法
4.2.1 实验样品:
4.2.2 薄膜样品制备
4.3 光谱分析软件设计
4.3.1 总体设计
4.3.2关键技术
4.3.3 软件界面及功能介绍
4.4 本章小结
第5章 样品的检测分析
5.1 序言
5.2 块体样品的检测
5.2.1 不锈钢的检测
5.2.2 五角硬币的检测
5.2.3 CdTe靶材的检测
5.3 CdTe薄膜的检测
5.4 本章小结
第6章 结论
致 谢
参考文献
附 录