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【6h】

650V P型栅结构增强型硅基氮化镓HEMT特性与失效

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目录

第一章 绪论

§1.1研究背景与意义

§1.2GaN HEMT器件研究历史与现状

§1.3研究内容

第二章 GaN材料与HEMT功率器件

§2.1 GaN材料

§2.1.1 GaN材料特性与晶体结构

§2.1.2 AlGaN/GaN异质结特性

§2.1.3 GaN材料生长与材料缺陷

§2.2 AlGaN/GaN HEMT功率器件

§2.2.2增强型GaN HEMT器件结构及原理

§2.3 本章小结

第三章仿真软件校准与650V P型栅AlGaN/GaN HEMT模型建立

§3.1.1 TCAD仿真与原理简介

§3.1.2耗尽型GaN HEMT的制备与转移特性测试

§3.1.3 TCAD仿真软件参数校准

§3.2 650V P型栅结构模型建立与基本性能仿真

§3.2.1 650V P型栅结构模型建立

§3.2.2 650V P型栅结构器件基本性能仿真

§3.3 本章小结

第四章 GaN材料缺陷与瞬态应力引起650V P型栅AlGaN/GaN HEMT的失效问题

§4.1.1 GaN材料施主型缺陷对器件可靠性的影响

§4.1.2 GaNGaN材料受主型缺陷对器件可靠性的影响

§4.2 瞬态应力对器件可靠性的影响

§4.2.1栅极瞬态大电压冲击对器件可靠性的影响

§4.2.2瞬态大阻断电压冲击对器件可靠性的影响

§4.3本章小结

第五章 总结与展望

参考文献

致谢

作者在攻读硕士期间的主要研究成果

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