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张潜;
西安理工大学;
磁控溅射; 脉冲放电; 靶电压; 通气流量; Cr镀层; 沉积效果;
机译:通过混合反应磁控溅射/等离子增强化学气相沉积工艺合成的WC / C:H膜:替代基于Cr(VI)的硬铬镀层
机译:定向刨花板布线中沉积参数对CrxNy磁控溅射镀层耐磨性的影响。
机译:PVD电弧放电和磁控溅射沉积的纳米结构自润滑CrN-Ag膜
机译:新型涂料的热腐蚀;磁控溅射离子镀CrAlYN,HIPIMS沉积的TiAlYN / CrN + Alox的Hauzer涂层和由双磁控溅射在750℃50hrs测试中沉积的Hauzer的Al2O3覆盖层的TiAlN
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:放电功率和热处理对射频磁控溅射沉积磷酸钙涂层的影响
机译:使用封闭的场不平衡磁控溅射离子镀层沉积的合金氮化物涂层的表面自由能
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译:变更影响研究支持程序,变更影响研究支持设备和变更影响研究支持方法
机译:变更影响研究支持变更影响研究支持计划以及变更影响研究支持设备
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