TFT-LCD制造中的阵列缺陷分析和修复

摘要

液晶显示制造中的阵列缺陷检测和修复工艺是提高产品良率的重点工艺,也是融合了缺陷检测、修复技术、激光处理、薄膜特性分析和电路等效分析等多种技术的综合性工艺技术。
　　 本文主要对第五代TFT-LCD生产工艺中的电性缺陷处理和修复技术进行了深入探讨,从缺陷修复的角度出发,对缺陷种类的产生、检测方式进行细致的区分与讨论,对各类缺陷及其所涉及工艺、检测设备和修复设备结构、成膜材料、像素设计结构等方面进行了分析,通过等效电路模型、实验设计等分析手段,提出一套较为全面实用的检测和激光修复方法,特别对某些关键缺陷的检测和修复提出了创新性的处理办法,从而提高了修复范围和修复效果,最终有效地提高了产品的品质和良率。
　　 本文的大部分研究成果均已应用于TFT-LCD五代线的生产实际中,有效提高了良率,取得了较好的经济效益,并对我国TFT-LCD工艺制造、缺陷检测和修复技术的深入探索与发展有现实借鉴意义。

目录

文摘

英文文摘

第一章 绪论

1.1 TFT-LCD的发展

1.2 TFT-LCD的制造特点

1.3 TFT-LCD的缺陷

第二章 TFT-LCD的显示与制造

2.1 TFT-LCD的显示和结构

2.2 TFT-LCD的驱动

2.3 TFT-LCD的材料

2.4 TFT-LCD的制作工艺

第三章 TFT-LCD缺陷分析和修复初步研究

3.1 缺陷的分类

3.2 缺陷的主要类别

3.3 缺陷的检测

3.4 缺陷的修复

3.5 激光参数的初步选择

第四章 缺陷分析和修复详细研究

4.1 点缺陷的分析和修复

4.1.1 Cutting的修复研究

4.1.2 Gate-ITO welding的修复研究

4.1.3 S/D-ITO welding的修复研究

4.1.4 Gate-S/D welding的修复研究

4.2 线缺陷的分析和修复

4.2.1 DO的检测和修复

4.2.2 DGS的成盒检测和修复

4.2.3 GO的检测和修复。

第五章 结束语

致谢

参考文献

研究成果

附录 A