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TFT-LCD阵列工艺中的特气技术

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摘要

根据TFT阵列工艺中的各种膜的组成结构,分析了特气在成膜、刻蚀和清洗等工艺过程中的主要物理和化学过程.对特气按危险性进行了分类,介绍了供气系统和废气处理的方案以及废气处理应达到的指标.

著录项

来源
《工程建设与设计》 |2008年第9期|62-65|共4页
作者
杨光明; 李志伟;
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作者单位

中国电子工程设计院,北京,100840;

中国电子工程设计院,北京,100840;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TP211.6;
关键词
TFT-LCD''特气''排放处理;

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