结合条纹投影和光场的三维成像技术研究

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摘要

第一章绪论

1.1.1摄影测量法

1.1.2飞行时间法

1.1.3结构光照明法

1.2条纹投影三维测量技术

1.2.2相位测量轮廓术

1.2.3相位编码的特点

1.2.4条纹投影三维测量的关键技术问题及发展趋势

1.3光场三维成像

1.3.2光场采集的方法与设备

1.3.3光场成像技术的应用

1.4论文研究背景、意义和主要内容

1.4.2主要内容及章节安排

第二章基于条纹投影的光场三维重构

2.1光场成像模型

2.2极平面图与三维重构

2.3相位标签辅助深度估计

2.4实验装置与结果分析

2.4.2实验结果与分析

2.5本章小结

第三章条纹投影中的两步相移算法

3.1相位提取与相移算法

3.2两步相移算法模型

3.2.1线圆相交模型

3.2.2由反射率求解相位

3.3计算机模拟和实验结果验证

3.3.1计算机模拟

3.3.2暗环境实验

3.4本章小结

第四章两步相移算法的修正

4.1.2基于对比度优化的相位误差修正

4.2任意相移量的两步相移

4.3计算机模拟和实验论证

4.3.1计算机模拟

4.3.2实验结果

4.4本章小结

第五章总结与展望

参考文献

致谢

攻读硕士期间参与的工程项目和发表论文