声明
摘要
1．1自旋电子学简介
1．2磁电阻效应的发展
1．2．1巨磁电阻效应
1．2．2隧穿磁电阻效应
1．3自旋纳米振荡器及其研究进展
1．3．1自旋转移力矩效应
1．3．2自旋纳米振荡器
1．3．3自旋纳米振荡器研究现状
1．4本论文的研究目的和研究内容
第2章样品的制备方法与表征手段
2．1样品制备技术
2．1．1引言
2．1．2磁控溅射沉积技术
2．1．3紫外光刻和氩离子刻蚀微加工工艺
2．2样品表征技术
2．2．1 X射线衍射仪(XRO)
2．2．2交变梯度磁强计(AGM)
2．2．3超导量子干涉仪(SQUID)
2．2．4铁磁共振测量系统(FMR)
2．2．5 Current-In-Plane Tunneling(CIPT)
2．2．6原子力显微镜(AFM)
2．2．7台阶仪
第3章人工反铁磁钉扎结构
3．1引言
3．2样品制备
3．2．1样品生长
3．2．2磁性隧道结微加工制作
3．3样品测试
3．3．1磁性层制备与测试
3．3．2钉扎层的制备与测试
3．3．3人工反铁磁结构中Ru层厚度的确定
3．3．4完整样品的生长与测试
3．4本章小结
4．1引言
4．2结果与讨论
4．2．1样品制备
4．2．2[Pt/Co]n多层膜的垂直磁各向异性
4．2．3中间Ru层对人工反铁磁结构的影响
4．2．4多层膜结构和周期数对磁化翻转的影响
4．2．5样品的反常霍尔效应
4．2．6零净磁矩的人工反铁磁
4．3本章小结
第五章总结与展望
参考文献
致谢
发表论文目录
参加的学术会议
