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第一章绪论
第二章实验设备及分析方法
第三章中频非平衡磁控溅射制备非氢类金刚石薄膜
第四章氮气对沉积类金刚石薄膜的影响
第五章过渡层及不同基底对沉积类金刚石薄膜的影响
第六章结论与建议
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间发表的论文
周祎;
东北大学;
类金刚石薄膜; 磁控溅射; 等离子体源;
机译:离子辐照对电感耦合等离子体辅助非平衡磁控溅射法在丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂上制备的镍薄膜的影响
机译:离子辅助中频不平衡磁控溅射制备类金刚石碳膜
机译:封闭场非平衡磁控溅射离子镀制备的MoS_2复合涂层-机械-摩擦学-结构表征
机译:离子辅助磁控溅射钽薄膜的沉积与表征
机译:射频磁控溅射制备低温等离子体驱动纳米二氧化钛薄膜净化汽车尾气
机译:微波功率对ECR等离子体增强直流磁控溅射制备氢化类金刚石薄膜性能的影响*
机译:射频磁控溅射和离子辅助分子束外延生长alN薄膜的比较
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:高频等离子体生成的平衡到非平衡转换设备,平衡到非平衡转换设备构成的等离子体表面处理设备以及等离子体表面处理方法
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