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第1章 绪论
1.1 AlN薄膜概述
1.1.1 AlN结构与特性
1.1.2 AlN薄膜的制备方法
1.1.3 AlN薄膜的应用
1.2 反应磁控溅射原理
1.2.1 溅射
1.2.2 磁控溅射[39,40,41,42]
1.2.3 反应溅射[43,44]
1.2.4 中频溅射
1.2.5 反应溅射制备AlN薄膜存在问题
1.3 薄膜发光
1.3.1 发光物理过程[52]
1.3.2 薄膜电致发光
1.3.3 薄膜电致发光存在问题
1.4 本论文的研究内容及安排
第2章 反应磁控溅射制备AlN薄膜工艺研究
2.1 溅射装置
2.2 实验操作步骤及制备条件
2.2.1 基片的清洗
2.2.2 薄膜沉积
2.3 薄膜的形成过程
2.3.1 靶材的溅射
2.3.2 溅射粒子的迁移过程
2.3.3 溅射粒子的成膜过程
2.4 AlN薄膜结构分析
2.4.1 X射线分析方法[76]
2.4.2 AlN薄膜X射线衍射谱
2.5 AlN薄膜形貌分析
2.5.1 表面平整度分析AFM[78]
2.5.2 表面形貌图
2.6 AlN薄膜的组成
2.7 AlN薄膜的光学性质
2.7.1 基本理论
2.7.2 制备条件对光学性能的影响
2.8 本章小节
第3章 反应磁控溅射制备AlN薄膜的稳态特性
3.1 数学模型
3.1.1 模型假设
3.1.2 模型方程
3.2 实验与计算方法
3.3 实验和模拟结果比较
3.4 外部参数对过程的影响
3.4.1 电流恒定,流量变化
3.4.2 流量恒定,电压变化
3.4.3 流量恒定,电流变化
3.4.4 流量恒定,功率变化
3.5 迟滞现象消除方法的探讨
3.5.1 控制反应气体分压
3.5.2 增大真空泵抽速
3.5.3 减小靶面积
3.5.4 增加靶基距
3.6 本章小节
第4章 反应磁控溅射制备AlN薄膜的动态特性
4.1 模型的建立
4.2 动态特性及实验验证
4.3 外部参数对动态过程的影响
4.4 消除弧光的条件
4.5 本章小节
第5章 Mn或Cu掺杂AlN薄膜制备及其发光特性
5.1 AlN薄膜发光性能研究进展
5.1.1 红色
5.1.2 绿色
5.1.3 蓝色
5.1.4 白色
5.2 Mn掺杂AlN薄膜制备及其发光特性
5.2.1 Mn掺杂AlN薄膜的制备
5.2.2 Mn掺杂AlN薄膜的组成和结构
5.2.3 Mn掺杂AlN薄膜的发光特性
5.3 Cu掺杂AlN薄膜制备及其发光特性
5.3.1 Cu掺杂AlN薄膜的制备
5.3.2 Cu掺杂AlN薄膜的结构和组成
5.3.3 Cu掺杂AlN薄膜的发光特性
5.4 本章小节
第6章 结论
参考文献
致谢
博士期间发表论文情况
个人简历