声明
摘要
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 TiO2薄膜概述
1.2.1 TiO2的晶体结构和性能
1.2.2 TiO2薄膜的应用
1.3 Al2O3薄膜概述
1.3.1 Al2O3的晶体结构和性能
1.3.2 Al2O3薄膜的应用
1.4 薄膜的制备方法
1.4.1 溶胶-凝胶法(Sol-gel)
1.4.2 化学气相沉积发(CVD)
1.4.3 物理气相沉积法(PVD)
1.5 本研究的目的意义与主要内容
1.5.1 本文研究的目的与意义
1.5.2 本研究的主要内容
第2章 实验原理、方法与设备
2.1 射频(RF)反应磁控溅射原理
2.1.1 辉光放电原理
2.1.2 磁控溅射机理
2.1.3 射频(RF)反应磁控溅射机理
2.2 薄膜制备的设备与步骤
2.2.1 薄膜制备的设备
2.2.2 薄膜制备的步骤
2.3 薄膜性能表征
2.3.1 XRD物相分析
2.3.2 表面形貌分析
2.3.3 测重法分析膜厚
2.3.4 电化学测试
第3章 TiO2薄膜的制备和性能研究
3.1 溅射温度对TiO2薄膜的影响
3.1.1 溅射温度对TiO2薄膜表面形貌的影响
3.1.2 不同基片温度下制备的TiO2薄膜XRD分析
3.1.3 溅射温度对TiO2薄膜耐蚀性的影响
3.2 溅射气压对TiO2薄膜的影响
3.2.1 总气压对TiO2薄膜的影响
3.2.2 氧分压对TiO2薄膜的影响
3.3 靶功率对TiO2薄膜的影响
3.3.1 靶功率对TiO2薄膜形貌的影响
3.3.2 溅射功率对TiO2薄膜耐蚀性的影响
3.4 沉积时间对TiO2薄膜的影响
3.4.1 沉积时间对TiO2薄膜形貌的影响
3.4.2 沉积时间对TiO2薄膜耐蚀性的影响
3.5 薄膜的沉积速率以及在支架上的结合情况
3.5.1 薄膜的沉积速率
3.5.2 薄膜的在支架上的结合力
第4章 Al2O3薄膜的研究
4.1 基片温度对Al2O3薄膜的影响
4.1.1 基片温度对Al2O3薄膜表面形貌的影响
4.1.2 不同基片温度下制备的Al2O3薄膜XRD分析
4.1.3 温度对Al2O3薄膜耐蚀性的影响
第5章 结论
参考文献
致谢