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目录
第1章 绪论
1.1 晶体硅太阳电池发展背景
1.2 晶体硅太阳电池发射极技术
1.2.1 扩散的基本原理
1.2.2 现有晶体硅太阳电池扩散制备发射极技术分析
1.3 本课题研究目的与内容
第2章 气相沉积非晶体硅基固态扩散源材料与工艺
2.1 引言
2.2 实验过程与方法
2.2.1 实验材料与式样
2.2.2 p-n结制备原理与工艺
2.2.3 衬底样品表面准备
2.2.4 HWCVD沉积固态扩散源(α-Si:H薄膜)
2.2.5 固态源扩散
2.2.6 扩散后的检测及表征方法
2.3 结果与讨论
2.3.1α-Si:H薄膜扩散源沉积工艺及其对发射极层性能影响
2.3.2 非晶氧化硅薄膜沉积生长工艺及其对最终发射极性能的影响
2.4 小结
第3章 基于气相沉积非晶硅基薄膜扩散源的扩散制结工艺研究
3.1 引言
3.2 实验过程与方法
3.3 结果与讨论
3.3.1 预处理去氢
3.3.2 掺磷n型发射极的扩散制备
3.3.3 掺硼p型发射极高温扩散工艺
3.4 小结
第4章 总结与展望
4.1 结论
4.2 未来发展展望
致谢
参考文献
攻读学位期间的研究成果