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目录
第一章 绪论
1.1 Cu3N薄膜的概述
1.2 Cu3N薄膜的研究进展
1.3本论文的选题意义及研究内容
第二章 Cu3N薄膜的制备和表征
2.1 Cu3N薄膜常见的制备方法
2.2 本论文实验材料的制备方法
2.3本论文涉及的表征方法
2.4 本章小结
第三章 溅射功率对射频磁控溅射制备Cu3N薄膜结构性能的影响
3.1改变溅射功率制备Cu3N薄膜
3.2 薄膜结构分析
3.3薄膜表面形貌
3.4薄膜电阻率
3.5薄膜显微硬度
3.6本章小结
第四章 Mn掺杂对磁控溅射制备Cu3N薄膜的研究
4.1 Mn掺杂Cu3N薄膜的制备方法
4.2 Cu3NMnx 薄膜的EDS分析
4.3 Cu3NMnx 薄膜的结构分析
4.4 Cu3NMnx 薄膜的表面形貌
4.5 Cu3NMnx 薄膜的显微硬度
4.6 Cu3NMnx薄膜的电阻率
4.7 Cu3NMnx 薄膜的光学性质
4.8 Cu3NMnx 薄膜的磁性研究
4.9本章小结
第五章 结论和展望
5.1 结论
5.2 有待进一步研究的问题
参考文献
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文及专利
附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目
致谢