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第一章前言
第二章连续深浮雕微光学元件理论分析
§2.1引言
§2.2连续深浮雕微光学元件的光学性能
2.2.1光学斜率
2.2.2色差
2.2.3衍射效率
§2.3连续深浮雕微光学元件光场分布的追迹-衍射模型
2.3.1问题的提出
2.3.2光流体理论
2.3.3标量衍射理论
2.3.4追迹-衍射模型
§2.4微光学元件光能分布的模拟及验证
2.4.1模拟数据的处理
2.4.2衍射效率的模拟
2.4.3光能量分布的模拟和实验验证
§2.5小结
第三章连续曝光量分布的获得
§3.1引言
§3.2现有的连续曝光量生成方法简介
3.2.1全息记录法
3.2.2电子束、激光束直写
3.2.3灰度掩模技术
§3.3掩模移动曝光技术
3.3.1技术历史简介
3.3.2移动曝光原理
3.3.3边框效应
3.3.4掩模移动技术的对称性要求
§3.4掩模设计中的高频补偿和编码技术
3.4.1掩模损失与空频补偿
3.4.2移动掩模的编码技术
§3.5 G线投影曝光系统
§3.6小结
第四章连续深浮雕微光学元件的精密成形技术(一)
§4.1引言
§4.2光刻胶元件连续面形控制原理
4.2.1面形控制
4.2.2光致抗蚀材料的选择
4.2.3湿法刻蚀线性性能分析
§4.3光刻胶性能及湿法刻蚀工艺的优化
4.3.1连续面形对光刻胶的要求
4.3.2拓宽线性区
4.3.3跨越线性阈值
4.3.4显影工艺的优化
4.3.5其他工艺问题
§4.4光刻胶元件
4.4.1闪耀光栅
4.4.2角椎棱镜
4.4.3Fresnel透镜阵列
4.4.4微透镜阵列
§4.5小结
第五章连续深浮雕微光学元件的精密成形技术(二)
§5.1引言
§5.2干法刻蚀简介
5.2.1离子束刻蚀和等离子体刻蚀
5.2.2反应离子刻蚀
§5.3干法刻蚀中的精密成形技术
5.3.1浮雕微光学元件干法刻蚀现状
5.3.2干法刻蚀中面形控制成立的条件
5.3.3蚀速比
5.3.4各向异性比
§5.4浮雕深度的放大传递
5.4.1干湿法刻蚀的有机结合
5.4.2浮雕深度放大传递
5.4.3面形测量
§5.5小结
第六章连续深浮雕微光学元件应用实例
§6.1引言
§6.2角椎反射镜阵列用于定向反射
6.2.1原理
6.2.2立方型角椎棱镜阵列的制作
6.2.3立体角椎反射镜的性能
§6.3其它应用实例
6.3.1立体显示
6.3.2波前传感
6.3.3半导体整形
§6.4小结
第七章结束语
参考文献
博士生阶段所发表的论文
攻读博士学位期间参加的科研项目
附：专利
