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摘要
第一章 绪论
1.1.1 硬质涂层的发展进程
1.1.2 硬质涂层的研究方向
1.2 硬质涂层制备方法
1.2.1 磁控溅射原理
1.2.2 磁控溅射分类
1.3 有限元压痕仿真分析
1.3.2 有限元压痕仿真研究现状
1.4 研究内容与意义
第二章 实验内容
2.1 实验技术路线
2.2 原材料
2.3 实验设备
2.4 涂层有限元仿真分析
2.5 涂层微观组织分析
2.5.3 涂层物相分析
2.6 涂层摩擦磨损分析
2.7 涂层硬度及纳米压痕分析
2.7.1 涂层显微硬度分析
2.7.2 涂层纳米压痕分析
第三章 TiN/a-SiN多层硬质涂层性能研究
3.1.2 单层TiN、单层SiN薄膜结构分析
3.1.3 单层TiN、单层a-SiN薄膜力学性能
3.1.4 单层TiN、单层a-SiN薄膜有限元仿真
3.2 调制比1∶1的TiN/a-SiN多层硬质涂层力学性能研究
3.2.1 实验制备调制比1∶1的TiN/a-SiN多层膜
3.2.2 调制比1∶1的TiN/a-SiN多层膜硬度及压痕分析
3.2.3 调制比1∶1的TiN/a-SiN多层膜摩擦性能分析
3.2.4 调制比1∶1的TiN/a-SiN多层膜仿真分析
3.3 TiN-(Snm)/a-SiN多层硬质涂层力学性能研究
3.3.2 TiN(5nm)/a-SiN多层膜硬度及压痕分析
3.3.3 TiN(5nm)/a-SiN多层膜摩擦性能分析
3.3.4 TiN(5nm)/a-SiN多层膜仿真分析
3.4 TiN(10nm)/a-SiN多层硬质涂层力学性能研究
3.4.1 实验制备TiN(10nm)/a-SiN多层膜
3.4.2 TiN(10nm)/a-SiN多层膜硬度及压痕分析
3.4.3 TiN(10nm)/a-SiN多层膜摩擦性能分析
3.4.4 TiN(10nm)/a-SiN多层膜仿真分析
3.5 本章小结
第四章 TiN/a-C多层硬质涂层性能研究
4.1.1 制备单层TiN、单层a-C涂层
4.1.2 单层TiN、单层a-C薄膜结构分析
4.1.3 单层TiN、单层a-C薄膜力学性能
4.1.4 单层TiN、单层a-C薄膜有限元仿真
4.2 调制比1∶1的TiN/a-C多层硬质涂层力学性能研究
4.2.2 调制比1∶1的TiN/a-C多层膜硬度及压痕分析
4.2.3 调制比1∶1的TiN/a-C多层膜摩擦性能分析
4.2.4 调制比1∶1的TiN/a-C多层膜仿真分析
4.3 TiN(5nm)/a-C多层硬质涂层力学性能研究
4.3.2 TiN(5nm)/a-C多层膜硬度及压痕分析
4.3.3 TiN(5nm)/a-C多层膜摩擦性能分析
4.3.4 TiN(5nm)/a-C多层膜仿真分析
4.4 TiN(10nm)/a-C多层硬质涂层力学性能研究
4.4.2 TiN(10nm)/a-C多层膜硬度及压痕分析
4.4.3 TiN(10nm)/a-C多层膜摩擦性能分析
4.4.4 TiN(10nm)/a-C多层膜仿真分析
4.5 本章小结
第五章 a-SiN、a-C对多层膜力学性能的影响
5.2 a-SiN、a-C对多层膜摩擦磨损测试影响
第六章 结论与展望
6.1 结论
6.2 展望
参考文献
致谢
攻读硕士期间发表的文章专利