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第一章引言
第二章ZnO的基本性质及低维材料的特性简介
2.1 ZnO材料的基本特性
2.2 ZnO的紫外激光的研究进展
2.4低维材料的研究意义
第三章ZnO薄膜材料的制备和表征方法简介
3.1电子束蒸发设备的原理和结构
3.2热退火装置的结构
3.3 X射线衍射的原理
3.4微区光致发光光谱仪的结构
3.5透射反射谱的测试原理
第四章热氧化Zn膜制备的纳米ZnO薄膜的结构和光学性质研究
4.1出发点
4.2样品的制备过程
4.4热氧化Zn膜制备的纳米ZnO薄膜的光学特性
§4.4.1室温光致发光分析
§4.4.2低温光致发光分析
4.5本章小节
5.1背景资料
§5 2半导体量子阱超晶格的基本性质
§5.3样品的制备
5.4以MgO为缓冲层制备的ZnO及MgZnO合金薄膜的结构研究
5.5以MgO为缓冲层制备的ZnO及Mg ZnO合金薄膜的光学性质研究
§5.5.1室温光致发光(PL)分析
§5.5.2低温光致发光谱分析
§5.5.3反射谱分析
5.6本章小节
第六章结论
参考文献
致谢
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