大面积均匀纳米薄膜检测技术

摘要

大面积均匀纳米薄膜制备是大面积光刻中的关键技术，纳米薄膜的一致性和均匀性尤为重要。本文总结了超声雾化沉积法制备聚甲基丙烯酸甲酯纳米薄膜，初步探讨了该方法在大面积均匀纳米薄膜制备中的可行性。同时，分析了薄膜的检测方法。本论文针对当前大面积光刻中需要的大面积均匀纳米薄膜制备关键技术展开工作，研究超声雾化法制备大面积均匀纳米薄膜制备技术，探索一条廉价、有效的大面积均匀纳米薄膜制备技术，研究衬底材料及环境等因素对纳米薄膜质量的影响。大面积纳米薄膜制备技术的突破将是实现激光干涉纳米光刻制备大面积纳米结构的必要保障和前提。
　　随着薄膜材料的广泛应用，薄膜性能和厚度的测试变得尤为重要。薄膜的厚度决定性地影响薄膜的光学性能、力学性能和电磁性能等，所以准确地检测薄膜厚度已经成为一种关键性的技术。利用超声雾化沉积技术生成的甲基丙烯酸甲酯薄膜，并利用原子力显微镜(AFM)等测试手段对结构和形貌进行检测，以及激光干涉法对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的厚度进行测量。研究了各生长条件，如衬底温度、载气流量、衬底到端口的距离、干燥热处理对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的结构和性能的影响[1]。

目录

声明

摘要

第1章 绪论

1．1 引言

1．2 PMMA的基本性质

1．3 PMMA薄膜制备简介

1．4 国内外的研究现状及主要研究内容

1．5 本论文研究的目的和意义

1．6 本文的主要内容及研究成果

第二章 超声雾化技术原理

2．1 超声雾化技术发展和现状

2．2 超声雾化技术的原理

2．3 超声雾化法制备PMMA薄膜的原料要求与工艺

2．4 加热源设计及温度控制

2．5 本章小结

第三章 不同工艺参数下生成薄膜的形貌检测

3．1 表征手段

3．2 衬底温度对PMMA薄膜的形貌和沉积速率的影响

3．3 衬底到端口的距离薄膜性能的影响

3．4 干燥热处理对薄膜的影响

3．5 本章小结

第四章 薄膜厚度的测量

4．1 薄膜厚度的测量方法

4．2 本章小结

第五章 总结与展望

5．1 总结

5．2 展望

致谢

参考文献