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第一章绪论
1.1类金刚石薄膜
1.2类金刚石薄膜的性能
1.2.1力学方面的性能
1.2.2摩擦性能
1.2.3电学性能
1.2.4光学性能
1.3类金刚石薄膜的应用
1.3.1机械行业的应用
1.3.2电学上的应用
1.3.3磁学方面的应用
1.3.4声学上的应用
1.3.5光学上的应用
1.3.6医学上的应用
1.4类金刚石薄膜的制备方法
1.4.1弧光放电及磁过滤阴极电弧沉积法
1.4.2离子束沉积法
1.4.3脉冲激光沉积方法
1.4.4磁控溅射沉积方法
1.4.5直流辉光放电等离子体化学气相沉积
1.4.6射频辉光放电等离子体化学气相沉积(RF-PCVD)
1.5 DLC膜的生长机理
1.6类金刚石薄膜的研究现状
1.7本文研究的目的和意义及研究内容
第二章磁控溅射技术及薄膜的表征方法
2.1磁控溅射原理
2.2实验设备
2.3样品的制备
2.4 DLC薄膜的表征方法
2.4.1XRD表征分析
2.4.2 AFM表征分析
2.4.3膜厚的测量
2.4.4紫外-可见光光谱(UV-VIS)
2.4.5拉曼光谱(Raman)
2.4.6X射线光电子能谱(XPS)
2.4.7光致发光分析
2.5本章小结
第三章掺硅DLC薄膜结构及性能研究
3.1掺硅DLC薄膜的X射线衍射光谱研究
3.2掺硅DLC薄膜的表面形貌研究
3.3掺硅DLC薄膜光学透过率及光学带隙研究
3.4掺硅DLC薄膜XPS光谱研究
3.5掺硅DLC薄膜光致发光研究
3.6掺硅DLC薄膜的拉曼光谱研究
3.7本章小结
第四章工艺条件对成膜的影响
4.1制备参数对无氢DLC薄膜的沉积速率影响
4.2制备参数对无氢DLC表面形貌的影响
4.2.1溅射功率对DLC薄膜表面形貌影响
4.2.2基底温度对DLC薄膜表面形貌的影响
4.3制备参数对无氢DLC薄膜透射及光学带隙的影响
4.3.1溅射功率对DLC薄膜的透射及光学带隙的影响
4.3.2基底温度对DLC薄膜的透射光谱及光学带隙的影响
4.3.3溅射压强对DLC薄膜的透射光谱及光学带隙的影响
4.4本章小结
第五章结论与展望
5.1结论
5.2展望
参考文献
致谢
攻读学位期间主要的研究成果