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摘要
第一章 绪论
1.1 硅材料概述
1.1.1 太阳能级硅材料的发展概况
1.1.2 太阳能级硅材料的基本特性
1.2 单晶硅生长工艺
1.3 热系统的重要性
1.3.1 直拉单晶硅生长过程中的热传输
1.3.2 熔体热对流
1.4 直拉单晶硅生长的工艺过程
1.5 直拉单晶硅中的氧碳杂质
1.5.1 氧和碳对直拉单晶硅的影响
1.5.2 直拉单晶硅中氧与碳的引入
1.5.3 直拉单晶硅氧碳含量控制的研究进展
1.6 本论文的选题意义及内容
第二章 直拉单晶硅中氧的分布
2.1 直拉单晶硅中氧的基本性质
2.1.1 氧的固溶度
2.1.2 氧的扩散
2.1.3 氧含量的测量
2.2 实验内容
2.2.1 实验设备及材料制备
2.2.2 实验方案
2.3 实验结果及讨论
2.3.1 直拉单晶硅中氧的红外光谱特征
2.3.2 直拉单晶硅中的氧沉淀
2.3.3 直拉单晶硅中杂质分布位置
2.3.4 直拉单晶硅中氧的轴向分布规律
2.3.5 直拉单晶硅中氧的径向分布规律
2.4 小结
第三章 直拉单晶硅中碳的分布
3.1 硅中碳的基本性质
3.1.1 碳的固溶度
3.1.2 碳的分凝
3.1.3 碳的扩散
3.1.4 碳含量的测量
3.2 实验内容
3.2.1 实验设备及材料制备
3.2.2 实验方案
3.3 实验结果及讨论
3.3.1 直拉单晶硅中碳的红外光谱图
3.3.2 碳在单晶硅晶棒中的轴向分布规律
3.3.3 碳在单晶硅晶棒中的径向分布规律
3.4 小结
第四章 生产设备对直拉单晶硅中氧、碳含量的影响
4.1 直拉单晶硅中杂质含量的控制方法
4.1.1 直拉单晶硅中氧含量的控制方法
4.1.2 直拉单晶硅中碳含量的控制方法
4.2 实验部分
4.2.1 实验设备及材料制备
4.2.2 实验方案
4.3 改变热系统中氩气走向对单晶硅中氧、碳含量的影响
4.4 加热器尺寸减小对单晶硅中氧、碳含量的影响
4.5 不同石墨器件对单晶硅中氧、碳含量的影响
4.6 杂质含量减少后直拉单晶硅的红外光谱图
4.7 小结
第五章 生产工艺对直拉单晶硅中氧、碳含量的影响
5.1 直拉硅单晶的减压工艺
5.1.1 减压工艺的意义
5.1.2 工艺参数
5.1.3 氩气导流
5.2 实验部分
5.2.1 实验设备及材料制备
5.2.2 实验方案
5.3 氩气流量减小对单晶硅中氧、碳含量的影响
5.4 投料量对单晶硅中氧、碳含量的影响
5.5 改变晶体旋转速度和坩埚旋转速度对单晶硅中氧、碳含量的影响
5.6 杂质含量减少后直拉单晶硅的红外光谱图
5.7 小结
第六章 改进型热系统对氧碳含量及其分布的影响
6.1 引言
6.2 实验
6.2.1 改造热系统
6.2.2 基本实验条件
6.2.3 取样及分析测试
6.3 结果与讨论
6.3.1 红外光谱扫描
6.3.2 改进型热系统降低单晶硅中氧、碳含量
6.4 单晶硅中氧、碳含量降低对氧碳分布的影响
6.5 结论
第七章 总结与展望
7.1 总结
7.2 存在的问题与展望
参考文献
致谢
攻读学位期间发表的学术论文